分光分析ソリューション：
半導体製造（OES）
半導体プロセスには、再現性のあるリアルタイムの分析が求められます。発光分光法（OES）を利用することで、既存の装置の稼働を妨げることなく、稼働率、一貫性、およびスケーラビリティを重視した精密なモニタリングが可能になります。
日本国内の正規代理店 / Contact Our Local Distributors
Ocean Photonics, Inc.
オーシャンフォトニクス株式会社
3-30-16, Nishi-Waseda, Shinjuku-ku
Tokyo 169-0051
Japan
Contact: Takuya Asami
Telephone: +81-3-6278-9470
Fax: +81-3-6278-9480
Email: [email protected]
OptoSirius Corporation
オプトシリウス株式会社
MY Building 1-2-14, Akabane-nishi, Kita-ku
Tokyo 115-0055
Japan
Contact: Mitsuro Kitano
Telephone: +81-3-5963-6377
Fax: +81-3-5963-6388
Email:[email protected]
における課題
半導体
製造
分光法がどのように役立つかをご覧ください
プラズマプロセス中の予期せぬ停止および歩留まりの低下
エッチング工程と成膜工程におけるプロセスの再現性にばらつきが見られる
エンドポイントや血漿のドリフトをリアルタイムで検出することが困難です
既存のプロセスツール内における緊密な統合要件
発光分光法（OES）が半導体プロセスをどのように改善するか
エンドポイント検出（OES）
測定対象：
エッチングまたは成膜中のリアルタイムのプラズマ発光スペクトル。
学習内容：
プロセスの完了を示す明確なスペクトル信号。
その重要性：
過剰な加工を削減し、サイクルの一貫性を向上させ、工程リスクを低減します。
プロセス制御（OES）
測定対象：
血漿放出挙動の継続的な変化。
学習内容：
プロセスのドリフト、不安定性、または変動が発生した際の対処法。
その重要性：
既存のツールアーキテクチャを損なうことなく、より厳格なプロセス管理を実現します。
なぜオーシャン・オプティクスなのか
クローズドシステムでは、計測器に合わせてプロセスを調整せざるを得ません。オーシャン・オプティクスは、これとは正反対のアプローチを採用しています。当社の分光ソリューションは、お客様のツールアーキテクチャ、制御環境、および性能目標に適合するよう設計されています。
- 柔軟な設計– お客様の特定のプロセス信号に合わせて、波長範囲、分解能、光学系、および付属品を構成できます。
- 統合を念頭に設計– OEMへの統合や既存のツール環境に合わせて設計された、コンパクトでモジュール式のコンポーネントです。
- オープンプラットフォーム制御– OceanDirect™ SDK を使用して、ソフトウェアおよび自動化制御を全面的に行えます。
- プラットフォームの変更なしにスケールアップ– 同じエコシステムを活用して、研究開発から本番環境へと移行できます。センシング手法を再設計する必要はありません。
- 用途に合わせたコスト– 固定システムの制約や不必要な複雑さに費用を費やすことなく、必要な機能だけを正確に構築できます。
世界中の半導体エコシステムに導入されています
クローズドシステムでは、計測器に合わせてプロセスを調整せざるを得ません。オーシャン・オプティクスは、これとは正反対のアプローチを採用しています。当社の分光ソリューションは、お客様のツールアーキテクチャ、制御環境、および性能目標に適合するよう設計されています。
世界的なプロセス制御OEMメーカーに納入され、オーバーレイ計測システムに高分解能分光技術を組み込みました。
半導体プロセス制御装置に直接組み込まれています
おすすめの分光測定セット
各バンドルは、半導体製造環境においてOESと確実に統合できるよう設計されています。
エンドポイント検出（OES）
分光計：
QEPro-UV250-25
コリメーションレンズ：
84-UV-25
ファイバー：
QP600-1-SR-BX（耐ソーラライゼーション性）
UV領域における高い感度により、微弱なエンドポイント信号の検出が可能となり、プロセスの一貫性が向上します。
このセットを選んだ理由
特に低信号や不安定なプラズマ条件下において、プロセスの終了時点における微細なスペクトル変化を検出するように最適化されています。
主要なパラメータ
- 波長範囲：200～790 nm
- 光学分解能：約1.5 nm
- 信号性能：高感度、広いダイナミックレンジ、高いSNR
- 積分範囲：ミリ秒～分
- 光ファイバー：コア径600 µm、紫外線による劣化に強く、ステンレス鋼製アーマード仕様
- 光学系：UVグレードの溶融石英、長作動距離カップリング
QEPro分光計を選ぶ理由
QE Proは、微弱または変動しやすいエンドポイント信号に最適化されており、高いUV感度、広いダイナミックレンジ、および高いSNRを兼ね備えているため、研究開発から24時間365日の生産現場に至るまで、わずかなスペクトル変化を確実に検出することができます。
なぜコンポーネントを補完するのか
- レンズ：効率的な自由空間での集光と、柔軟なツールの位置決めに対応しています
- ファイバー：紫外線が豊富なプラズマ環境下でも信号の完全性を維持しつつ、機械的耐久性を高めます
プロセス制御（OES）
分光計：
HR-4UVV250-25
コリメーションレンズ：
84-UV-25
ファイバー：
QP600-1-SR-BX（耐ソーラライゼーション性）
高分解能により、隣接するスペクトル線が明確に区別され、プラズマの変化やプロセスのドリフトを正確に監視することができます。
このセットを選んだ理由
安定した高スループットの生産環境において、継続的なモニタリングと微細なスペクトル識別を行うために設計されています。
主要なパラメータ
- 波長範囲：約190～880 nm
- 光学分解能：1 nm未満
- 焦点：スペクトル分離と測定の安定性
- 積分範囲：ミリ秒～秒
- ファイバー：600 µm、紫外線による劣化に強く、アーマード仕様
- 光学系：UV用溶融石英、安定した光結合
HR-4分光計を選ぶ理由
HR-4はプロセス制御に最適であり、より高い分解能と熱安定性を備えているため、隣接する発光線を区別し、時間の経過に伴う微細なスペクトルシフトを追跡することができます。
なぜコンポーネントを補完するのか
- レンズ：工具環境において、一貫性があり柔軟な集光を実現します
- ファイバー：連続運転下での長期的な耐久性を確保します
適切な分光システムの選び方
理想的な分光システムを選定するには、精度と実用的な統合性のバランスを考慮する必要があります。
お客様の具体的な用途に最適なソリューションを見つけるためには、これらの重要な技術的要素が、お客様の運用目標とどのように合致するかを検討してください。
御社のプロセスにおいて、どのようなプラズマ信号が重要ですか？
信頼性の高い排出モニタリングを行うには、どの波長範囲が必要でしょうか？
OESは、御社の既存のツールアーキテクチャや制御フローにどのように統合されるのでしょうか？